氨逃逸標準抑制劑

一、產(chǎn)品介紹
NH3激光氣體分析系統(tǒng)（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統(tǒng)設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用復合電伴熱管纜，并控制在2m以內，整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統(tǒng)緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。

氨逃逸檢測系統(tǒng)具有多年在國內外從事可調諧半導體激光光譜分析技術研發(fā)、掌握TDLAS核心技術并積累豐富經(jīng)驗的技術專家、研發(fā)團隊精心打造而成的氣體監(jiān)測設備。測量快速、準確、穩(wěn)定、不受背景氣體干擾。

二、系統(tǒng)優(yōu)勢

NH3分析儀是采用可調諧半導體激光光譜技術研制而成。以高穩(wěn)定性、低噪聲的可調諧激光器為光源，可有效克服背景氣體、粉塵等因素干擾，實現(xiàn)準確、快速測量。

• 適應高溫、強腐蝕性氣體的在線檢測,采用非接觸光學檢測技術，對各類高溫氣體進行直接分析，針對各類腐蝕性氣體的檢測應用，選用特制的測量氣體室以及高溫伴熱等方式，有效防止氣體對儀器的腐蝕，滿足各類應用要求。

•系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要，NH3分析儀采用波長調制光譜技術，并且進行動態(tài)的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。

    NH3氣體分析系統(tǒng)現(xiàn)場安裝靈活，光學非接觸測量不易被腐蝕，光強不受煙氣粉塵影響，抗機械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數(shù)影響。具有測量精度高（達0.1ppm),抗干擾能力強、維護簡單,運行成本低等諸多優(yōu)勢，可滿足脫硝工藝中氨逃逸檢測需求。

三、技術參數(shù)

四、產(chǎn)品特點

1、該裝置與樣品接觸的部分全部采用316L不銹鋼材料加工制成，高溫條件下抗腐能力很強。配制防雨罩*可以勝任室外工作環(huán)境。
2、在設計上采用等溫加熱體，結構緊湊，加熱溫度穩(wěn)定。
3、過濾器濾芯采用SiC陶瓷過濾器，具有過濾面積大，過濾精度高等特點，更換時可將其從裝置中整體拉出，操作簡單，無需工具，大大地縮短維護更換的時間，并降低了勞動強度。
4、該裝置除設有一樣氣輸出口外，還設置有一個可復用的反吹／校準口，在配置時可靈活安排氣路。
5、操作簡單,帶有低溫報警.
6、濾芯更換無需工具 。
7、開關方便，帶扣鎖保護罩
8、高效過濾清潔系統(tǒng)

五、系統(tǒng)主要技術指標
●檢測工藝點：脫銷氨逃逸檢測     ●分析組分：NH₃

●系統(tǒng)響應時間：1秒        ●測量范圍：0-50ppm（可定制）
●測量精度:±1%F.S         ●穩(wěn)定性：無漂移
●氣體壓力:25—2000mbar   　●校正:出廠設定
●系統(tǒng)維護周期：1年       　●系統(tǒng)可靠性： MTBF≥1年●信號輸出：RS-232或RS-482/4～20mA隔離電流信號。

●輸出信號：4～20mA，控制報警信號NO/NC
●工作電源：220VAC50HZ    ●工作氣源：儀表級壓縮空氣

●環(huán)境溫度:-10℃—50℃    ●伴熱溫度:190℃           

●安裝方式:在位式

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氨逃逸標準抑制劑